BaF2 Substrato
Priskribo
BaF2 optika kristalo havas bonegan IR-agadon, bonan optikan transmitance super larĝa spektra gamo.
Propraĵoj
| Denso (g/cm).3） | 4.89 |
| Fandpunkto (℃) | 1280 |
| Termika Kondukto | 11.72 Wm-1K-1 ĉe 286K |
| Termika Ekspansio | 18,1 x 10-6 /℃ ĉe 273K |
| Knoop Malmoleco | 82 kun 500g indentilo (kg/mm2) |
| Specifa Varmo Kapacito | 410J/(kg.k) |
| Dielektrika Konstanto | 7.33 ĉe 1MHz |
| Youngs Modulo (E) | 53.07 GPa |
| Tonda Modulo (G) | 25,4 GPa |
| Pogranda Modulo (K) | 56.4 GPa |
| Elasta Koeficiento | Elasta KoeficientoElasta Koeficiento |
| Ŝajna Elasta Limo | 26.9 MPa (3900 psio) |
| Poisson Proporcio | 0.343 |
BaF2 Substrato Difino
BaF2 aŭ bariofluorido estas travidebla kristala materialo ofte uzata kiel substrato en diversaj optikaj aplikoj.Ĝi apartenas al la klaso de neorganikaj komponaĵoj konataj kiel metalaj halogenidoj kaj havas bonegajn optikajn kaj fizikajn ecojn.
BaF2-substratoj havas larĝan dissendintervalon kovrantan ultraviola (UV) ĝis infraruĝaj (IR) ondolongoj.Tio igas ilin taŭgaj por gamo da optikaj aparatoj, inkluzive de ultraviola spektroskopio, bildigaj sistemoj, optiko por spacbazitaj teleskopoj kaj detektilfenestroj.
Unu el la karakterizaj trajtoj de la BaF2-substrato estas sia alta refrakta indico, kiu ebligas efikan luman kupladon kaj manipuladon.Alta indekso de refrakto helpas minimumigi reflektajn perdojn kaj optimumigi la agadon de optikaj tegaĵoj kiel kontraŭreflektaj tegaĵoj.
BaF2 ankaŭ havas altan reziston al radiado-damaĝo, igante ĝin ideala por aplikoj en alt-energiaj radiadmedioj, kiel ekzemple partikla fizikaj eksperimentoj kaj atommedicina bildigo.
Krome, BaF2-substrato havas bonan termikan stabilecon kaj malaltan termikan ekspansiokoeficienton.Ĉi tio igas ilin taŭgaj por uzo en alttemperaturaj medioj kaj aplikoj kiuj postulas optikan efikecon esti konservita sub ŝanĝiĝantaj temperaturkondiĉoj.
Ĝenerale, BaF2-substratoj havas bonegan optikan travideblecon, altan refraktan indicon, reziston al radiada damaĝo kaj termika stabileco, igante ilin valoraj en diversaj optikaj sistemoj kaj aparatoj.
