Substrato de MgO
Priskribo
MgO ununura substrato povas esti uzita por krei moveblan komunika ekipaĵon necesan por alt-temperaturaj superkonduktaj mikroondfiltriloj kaj aliaj aparatoj.
Ni uzis kemian mekanikan poluradon, kiu povas esti preta por altkvalita atomnivelo la surfaco de la produkto, Plej granda grandeco 2 "x 2" x 0.5mm substrato havebla.
Propraĵoj
| Kreska Metodo | Speciala Arko-Fandiĝo |
| Kristala Strukturo | Kubo |
| Kristalografia Krada Konstanto | a = 4,216Å |
| Denso (g/cm).3） | 3.58 |
| Fandpunkto（℃） | 2852 |
| Kristala Pureco | 99,95 % |
| Dielektrika Konstanto | 9.8 |
| Termika Ekspansio | 12.8ppm/℃ |
| Fendo-Ebeno | <100> |
| Optika Transdono | >90% (200~400nm),>98% (500~1000nm) |
| Kristala Prefekto | Neniuj videblaj inkludoj kaj mikrokrakado, X-Ray balanciĝanta kurbo havebla |
Mgo Substrate Difino
MgO, mallongigo de magneziooksido, estas ununura kristala substrato ofte uzata en la kampo de maldika filma deponado kaj epitaksia kresko.Ĝi havas kuban kristalan strukturon kaj bonegan kristalan kvaliton, igante ĝin ideala por kreskigi altkvalitajn maldikaj filmoj.
MgO-substratoj estas konataj pro siaj glataj surfacoj, alta kemia stabileco, kaj malalta difektdenseco.Ĉi tiuj propraĵoj igas ilin idealaj por aplikoj kiel semikonduktaĵaj aparatoj, magnetaj registradmedioj kaj optoelektronikaj aparatoj.
En maldika filmdemetado, MgO-substratoj disponigas ŝablonojn por la kresko de diversaj materialoj inkluzive de metaloj, duonkonduktaĵoj kaj oksidoj.La kristala orientiĝo de la MgO-substrato povas esti singarde elektita por egali la deziratan epitaksian filmon, certigante altan gradon da kristala paraleligo kaj minimumigante kradan miskongruon.
Krome, MgO-substratoj estas uzitaj en magnetaj registradmedioj pro sia kapablo disponigi tre ordigitan kristalstrukturon.Tio enkalkulas pli efikan paraleligon de magnetaj domajnoj en la registra medio, rezultigante pli bonan datumstokan efikecon.
En konkludo, MgO ununuraj substratoj estas altkvalitaj kristalaj substratoj utiligitaj kiel ŝablonoj por la epitaksia kresko de maldikaj filmoj en diversaj aplikoj, inkluzive de duonkonduktaĵoj, optoelektroniko, kaj magnetaj registradmedioj.
