Ge substrato
Priskribo
Ge ununura kristalo estas bonega duonkonduktaĵo por infraruĝa kaj IC-industrio.
Propraĵoj
| Kreska Metodo | Czochralski metodo | ||
| Kristala Strukturo | M3 | ||
| Unuĉela Konstanto | a = 5,65754 Å | ||
| Denso (g/cm).3） | 5.323 | ||
| Fandpunkto（℃） | 937.4 | ||
| Dopita Materialo | Neniu dopo | Sb-dopita | En / Ga –dopita |
| Tajpu | / | N | P |
| Rezisteco | ＞35Ωcm | 0.05Ωcm | 0.05~0.1Ωcm |
| EPD | ＜4×103∕cm2 | ＜4×103∕cm2 | ＜4×103∕cm2 |
| Grandeco | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， | ||
| dia2” x 0,33 mm dia2” x 0,43 mm 15 x 15 mm | |||
| Dikeco | 0.5mm，1.0mm | ||
| Polurado | Unuopa aŭ duobla | ||
| Kristala Orientiĝo | <100>、<110>、<111>、±0.5º | ||
| Ra | ≤5Å（5µm×5µm） | ||
La Difino de Substrato de Ge
La Ge-substrato rilatas al substrato farita el elemento germanio (Ge).Germanio estas duonkondukta materialo kun unikaj elektronikaj trajtoj, kiuj igas ĝin taŭga por diversaj elektronikaj kaj optoelektronikaj aplikoj.
Ge-substratoj estas ofte uzitaj en la fabrikado de elektronikaj aparatoj, precipe en la kampo de semikonduktaĵteknologio.Ili estas utiligitaj kiel bazmaterialoj por deponado de maldikaj filmoj kaj epitaksaj tavoloj de aliaj duonkonduktaĵoj kiel ekzemple silicio (Si).Ge-substratoj povas esti uzitaj por kreskigi heterostrukturojn kaj kunmetitajn semikonduktaĵtavolojn kun specifaj trajtoj por aplikoj kiel ekzemple altrapidaj transistoroj, fotodetektiloj, kaj sunĉeloj.
Germanio ankaŭ estas uzita en fotoniko kaj optoelektroniko, kie ĝi povas esti utiligita kiel substrato por kultivado de infraruĝaj (IR) detektiloj kaj lensoj.Ge-substratoj havas trajtojn postulatajn por infraruĝaj aplikoj, kiel ekzemple larĝa dissendintervalo en la mez-infraruĝa regiono kaj bonegajn mekanikajn trajtojn ĉe malaltaj temperaturoj.
Ge-substratoj havas proksime egalan kradan strukturon al silicio, igante ilin kongruaj por integriĝo kun Si-bazita elektroniko.Tiu kongruo permesas la fabrikadon de hibridaj strukturoj kaj la evoluon de progresintaj elektronikaj kaj fotonaj aparatoj.
En resumo, Ge-substrato rilatas al substrato farita el germanio, duonkondukta materialo uzita en elektronikaj kaj optoelektronikaj aplikoj.Ĝi funkcias kiel platformo por la kresko de aliaj semikonduktaĵoj, ebligante la fabrikadon de diversaj aparatoj en la kampoj de elektroniko, optoelektroniko kaj fotoniko.
